Специалисты научного центра «Передовые цифровые технологии» при Санкт-Петербургском политехническом университете Петра Великого (СПбПУ) сообщили о разработке отечественного комплекса для производства наноструктур, необходимых для создания микроэлектронного оборудования.
Разработанный комплекс состоит из двух частей: промышленного образца установки безмасочной нанолитографии и промышленного образца установки плазмохимического травления кремния. В министерстве науки и высшего образования РФ уверены, что это достижение решит вопрос технологического суверенитета России в сфере микроэлектроники.
В качестве альтернативы дорогостоящему и сложному процессу литографии, зачастую выполняемого на зарубежном оборудовании, российские учёные предложили использовать технологию безмасочной нанолитографии. Она позволяет получать аналогичное изображение на подложке без использования шаблона (маски). По предварительным оценкам, такая установка будет стоить примерно 5 миллионов рублей, тогда как иностранный аналог оценивается в 10–13 миллиардов рублей.
Следующим этапом для создания наноструктур указывается процесс плазмохимического травления по предварительно созданному рисунку. Кроме формирования наноструктур, на отечественной установке можно создавать кремниевые мембраны, которые будут использоваться в судовых датчиках избыточного давления.
«Созданные на установке плазмохимического травления мембраны превосходят по надёжности и чувствительности изготовленные методами жидкостного или лазерного травления. Кроме того, они являются полностью отечественным продуктом», — рассказал руководитель научной группы, заведующий лабораторией «Технологии материалов и изделий электронной техники» СПбПУ Артём Осипов.
Для работы прибора было написано специальное программное обеспечение, что позволило полностью автоматизировать работу комплекса. Далее специалисты планируют внедрить машинное обучение на обе установки.
